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當(dāng)前位置: 首頁(yè) > 常見問題 > 真空爐實(shí)現(xiàn)無(wú)氧化加熱的基本條件
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真空爐完成無(wú)氧化加熱的基本條件:金屬在必定的溫度下加熱,與氣氛中的氧化合,其化學(xué)反響式為:MeO2=Me+O2
    反響的方向與金屬的性質(zhì)、加熱溫度、氣氛中氧的分壓有關(guān),當(dāng)氣氛中氧的分壓大于某個(gè)數(shù)值時(shí),反響由右向左進(jìn)行,呈氧化反響;反之,為復(fù)原反響。當(dāng)反響到達(dá)平衡狀態(tài)時(shí),氣氛中氧的分壓等于該種金屬氧化物的平衡分解壓。
    因此,真空爐完成無(wú)氧化加熱的基本條件為氣氛中氧的分壓有必要低于金屬氧化物的平衡分解壓。
    金屬氧化物的平衡分解壓一般都很低,而真空爐的總壓力一般不低于1×10-3Pa,為了完成金屬的無(wú)氧化加熱,真空室內(nèi)殘余氣體中氧的分壓有必要低于金屬氧化物的平衡分解壓。為此,不能僅靠抽真空,還要靠高溫化學(xué)反響,抽真空將很多氣體排掉,剩下的氧化性氣體與復(fù)原性物質(zhì)化合,才能使氧分壓降到金屬氧化物的平衡分解壓以下,完成金屬的無(wú)氧化加熱。

真空爐

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