真空度要求：真空爐內部需求保持必定的真空度，以排除空氣對加熱進程和物料處理的影響。真空爐石墨件在此環(huán)境下工作，需求具有出色的密封功能，以避免氣體泄露和外界雜質進入。
氣體控制與活動：真空爐石墨件在真空爐中還可以規(guī)劃成特定的形狀和結構，用于控制爐內氣體的散布和活動。這有助于完結爐內氣氛的均勻性和穩(wěn)定性，關于某些需求特定氣氛環(huán)境的工藝進程尤為重要。
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