真空爐石墨配件的使用環(huán)境：
    氧氣含量：在高溫真空環(huán)境下，石墨資料容易遭到氧氣的進(jìn)犯。尤其是在爐門(mén)開(kāi)關(guān)過(guò)程中，爐內(nèi)氧氣含量或許會(huì)時(shí)間短升高，增加了石墨配件氧化的危險(xiǎn)。如果真空爐的密封功能欠安，外部空氣或許滲入爐內(nèi)，進(jìn)一步加重真空爐石墨配件的氧化。
    污染物：真空爐內(nèi)部或許存在的殘留水分、氣體或其他污染物也或許促進(jìn)氧化反響的產(chǎn)生。
    溫度與濕度：在高溫、高濕環(huán)境下，石墨制品的失重率會(huì)明顯增加，抗氧化功能也會(huì)相應(yīng)下降。